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中文名稱：氟化鉺
中文別名：氟化鉺(III)
英文名稱：Erbium(III) fluoride
英文別名：erbium(3+)，trifluoride
化學(xué)式：ErF3
式量：224.25

CAS號(hào)：13760-83-3
EINECS號(hào)：237-356-3
MDL號(hào)：MFCD00016074
PubChem號(hào)：24867074
編號(hào)系統(tǒng)
CAS號(hào)：13760-83-3
MDL號(hào)：MFCD00016074
EINECS號(hào)：237-356-3
PubChem號(hào)：24867074
物性數(shù)據(jù)
性狀：玫瑰色晶體。
密度（g/mL，25/4℃）：7.814
熔點(diǎn)（oC）：1350
沸點(diǎn)（oC，常壓）：2200
自燃點(diǎn)或引燃溫度（oC）：不適用的
溶解性：不能溶解的
毒理學(xué)數(shù)據(jù)
急性毒性：主要的刺激性影響：
在皮膚上面：刺激皮膚和粘膜；
在眼睛上面：刺激的影響；沒(méi)有已知的敏化影響。
生態(tài)學(xué)數(shù)據(jù)
通常對(duì)水是不危害的，若無(wú)政府許可，勿將材料排入周圍環(huán)境。
分子結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)
1、單一同位素質(zhì)量：222.92551 Da
2、標(biāo)稱質(zhì)量：223 Da
3、平均質(zhì)量：224.2542 Da
計(jì)算化學(xué)數(shù)據(jù)
1.疏水參數(shù)計(jì)算參考值（XlogP）:無(wú)
2.氫鍵供體數(shù)量:0
3.氫鍵受體數(shù)量:3
4.可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量:0
5.互變異構(gòu)體數(shù)量:無(wú)
6.拓?fù)浞肿訕O性表面積0
7.重原子數(shù)量:4
8.表面電荷:0
9.復(fù)雜度:0
10.同位素原子數(shù)量:0
11.確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
12.不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
13.確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
14.不確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
15.共價(jià)鍵單元數(shù)量:4
性質(zhì)與穩(wěn)定性
常溫常壓下穩(wěn)定。
避免的物料 水分/潮濕 還原劑。不溶于水和稀酸，難溶于氫氟酸，溶于硫酸。
貯存方法
常溫密閉，陰涼通風(fēng)干燥。

危險(xiǎn)運(yùn)輸編碼：UN 3288 6.1/PG 3
有毒
安全說(shuō)明
S26：不慎與眼睛接觸后，請(qǐng)立即用大量清水沖洗并征求醫(yī)生意見。
S36/37/39：穿戴適當(dāng)?shù)姆雷o(hù)服、手套和護(hù)目鏡或面具。
S45：若發(fā)生事故或感不適，立即就醫(yī)（可能的話，出示其標(biāo)簽）。
危險(xiǎn)類別碼
R23/24/25：吸入、皮膚接觸及吞食有毒。
R32：與酸接觸釋放極高毒性氣體。

氫氟酸沉淀-真空脫水法。將過(guò)量氫氟酸加到氯化鉺或硝酸鉺中，將其水溶液在水浴上蒸發(fā)、濃縮、冷卻、結(jié)晶，即可制得三氟化鉺的水合物。然后在真空中加熱脫去結(jié)晶水。
氫氟酸濃度一般為40%～48%，它的消耗量是理論量的110%～120%。從水溶液中析出的氟化鉺沉淀，必須用水充分洗滌，水洗采用傾瀉法。過(guò)濾后的沉淀物在100～150℃下干燥，以脫去吸附水。得到只含結(jié)晶水的氟化物。為避免脫水中發(fā)生高溫水解，生成氟氧化物ErOF，脫水過(guò)程需在真空中加熱進(jìn)行。真空度要高于0.133Pa，脫水溫度不低于300℃。
另一種脫水方法就是將水合氟化鉺放在干燥氟化氫氣流中脫水，最終脫水溫度為600～650℃。由于氫氟酸沉淀是在水溶液中進(jìn)行的，故一般使用塑料反應(yīng)容器，且脫水設(shè)備宜用耐高溫腐蝕的材料，一般采用鎳基合金材料制作。

氟化鉺薄膜晶體
在空間光學(xué)、光通信、光譜儀、激光等大型光學(xué)系統(tǒng)中， 光學(xué)薄膜和器件的作用至關(guān)重要， 同時(shí)， 這些領(lǐng)域的應(yīng)用也對(duì)光學(xué)薄膜的光學(xué)、物理、化學(xué)等性能提出了許多嚴(yán)格要求.比如， 在光學(xué)性能中， 要求鍍膜材料有合適的光譜透光范圍和折射率， 在透光范圍內(nèi)有足夠小的吸收等.在機(jī)械和化學(xué)穩(wěn)定性方面要求鍍膜材料機(jī)械性能穩(wěn)定， 對(duì)環(huán)境變化不敏感，內(nèi)應(yīng)力小，內(nèi)部缺陷少。在目前使用的紅外光學(xué)薄膜材料中能滿足上述要求的材料有限， 特別是長(zhǎng)波紅外區(qū)， 性能穩(wěn)定的低折射率薄膜材料更少.氟化釷(ThF4)光學(xué)性能優(yōu)異， 機(jī)械性能好， 作為膜堆中的低折射率材料得到了廣泛的應(yīng)用。但是，ThF4的放射性對(duì)人和環(huán)境危害嚴(yán)重， 所以在濾光片的生產(chǎn)中受到越來(lái)越多的限制。因此， 尋找一種可以替代ThF4，卻沒(méi)有放射性的低折射率紅外透光材料成了許多透光材料研究的主題。
稀土氟化物從真空紫外到遠(yuǎn)紅外區(qū)都是很好的透光材料， 在真空紫外區(qū)， 稀土氟化物材料可作為紫外薄膜器件中的高折射率層， 而在遠(yuǎn)紅外區(qū)， 稀土氟化物又可作為紅外薄膜器件中的低折射率層。近年來(lái)， 稀土氟化物在真空紫外光學(xué)薄膜器件的應(yīng)用引起了很多科研工作者的關(guān)注， 關(guān)于這方面的研究可見文獻(xiàn)。在遠(yuǎn)紅外區(qū)， 稀土氟化物材料， 如氟化釔(YF3)、氟化鑭(LaF3)、氟化鈰(CeF3)、氟化鉿(HfF4)、氟化釹(NdF3)等材料的光學(xué)常數(shù)都有報(bào)道， 但是， 由于測(cè)量技術(shù)的限制，稀土氟化物材料從近紅外到10μm處的折射率和消光系數(shù)數(shù)據(jù)非常匱乏， 在光學(xué)薄膜器件應(yīng)用方面的報(bào)道則更少。氟化鉺屬于鑭系中的重稀土氟化物， 近十年來(lái)的文獻(xiàn)資料中， 氟化鉺薄膜的紅外光學(xué)常數(shù)以及在薄膜器件方面的研究還未見報(bào)道， 關(guān)于氟化鉺的研究主要集中在含氟化鉺的紅外透光玻璃。
Pisarska 的研究表明， 含氟化鉺的氟化物玻璃紅外截至波長(zhǎng)可達(dá)21.74 ±0.05μm， 遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出其他氟化物玻璃的截至波長(zhǎng)。該研究結(jié)果表明， 氟化鉺是一種很有潛力的長(zhǎng)波紅外低折射率透光材料。本研究的主要目的是用洛倫茲模型計(jì)算氟化鉺薄膜從2—10μm的光學(xué)常數(shù)， 并研究沉積工藝參數(shù)對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能的影響， 為氟化鉺薄膜在空間紅外光學(xué)薄膜器件的應(yīng)用提供詳實(shí)的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。
熱蒸發(fā)氟化鉺薄膜的結(jié)構(gòu)對(duì)紅外光學(xué)性能的影響。隨著沉積溫度的升高， 氟化鉺薄膜發(fā)生了從非晶到結(jié)晶的轉(zhuǎn)變， 遠(yuǎn)紅外區(qū)的透射光譜有明顯的變化， 部分結(jié)晶的樣品遠(yuǎn)紅外振動(dòng)模式和完全非晶的樣品基本一致， 但是和完全結(jié)晶樣品則沒(méi)有相似之處。隨著溫度的升高， 薄膜的熱應(yīng)力增大， 薄膜的折射率有規(guī)律地減小， 消光系數(shù)也隨之降低。結(jié)果發(fā)現(xiàn)250 ℃下沉積的氟化鉺結(jié)晶薄膜具有最小的折射率和消光系數(shù)， 在10μm處分別為n =1.32，k =0.006。

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